ट्रेस्की सोल्डरिङय् नाइट्रोजन (HCOOH + N2) नापं फर्मिक एसिड वाष्प छ्यलिगु या, गुकिलिं अप्टोइलेक्ट्रोनिक्स व फोटोनिक्स एसेम्बली व अन्तरसंयोजन प्रविधिइ फाइदा बी। फर्मिक एसिडं अक्साइडयात विश्वसनीय रुपं म्ह्व याइ अले फ्लक्सयात पूवंक हे मदयेका बी । फर्मिक एसिडया छ्येलेज्यां बांलाःगु सतहया गीलापन नं सुनिश्चित याइ, गुकिलिं जटिल वेल्डिङ प्रक्रियाया निंतिं उपयुक्त अवस्था दयेकी। थुगु मोड्यूलयात युटेक्टिक सोल्डरिङ्ग व थर्मोकम्प्रेसन वेल्डिङ्गया निंतिं छ्यली, दसुया निंतिं इन्डियमलिसे । दक्वं बन्धन प्रक्रियाय् नाइट्रोजन-समृद्ध फर्मिक एसिड (HCOOH) छ्यलिगु या गुकिलिं बबलर धाइ। नाइट्रोजन वाष्प व फर्मिक एसिडया मिश्रणयात नियन्त्रित रुपं उपचार कक्षय् दुथ्याकाः पिकाइ ।